產(chǎn)品分類

Product Category

電子束

激光光刻系統(tǒng) 納米加工

查看全部

相關(guān)文章

X射線顯微鏡如何工作？透射電子顯微鏡及其應(yīng)用蔡司共聚焦顯微鏡如何進(jìn)行明場成像？奧林巴斯SZX16體視顯微鏡使用該顯微鏡的一般步驟脈沖激光沉積樣品臺的操作保養(yǎng)規(guī)程等離子刻蝕機(jī)的優(yōu)勢

詳細(xì)介紹

品牌	其他品牌	應(yīng)用領(lǐng)域	環(huán)保,化工,電子/電池

具有分辨率的直接激光刻錄機(jī)

PICOMASTER 是一系列直接激光刻錄機(jī)，可使用單個激光束創(chuàng)建高分辨率結(jié)構(gòu)。這款多功能、低維護(hù)的激光刻錄機(jī)可為特征和光柵周期提供分辨率。用戶友好的 PICOMASTER 系列為您的激光光刻挑戰(zhàn)提供了解決方案。

具有以下功能：

單聚焦光束寫入策略
分辨率低至 0.3 μm
4096級灰度光刻

即使在具有挑戰(zhàn)性的基材上也能進(jìn)行專有自動對焦
最大 8" x 8" 暴露區(qū)域
無縫合曝光

PICOMASTER 直接激光刻錄機(jī)為您的微加工需求提供解決方案。

提供 405 和 375 激光源，保證 300 nm 的分辨率，因此 PICOMASTER 直接激光刻錄機(jī)可產(chǎn)生市場上最高分辨率。這些無掩模直接激光刻錄機(jī)增強(qiáng)了科學(xué)和工業(yè)目的的創(chuàng)新實力，為光子器件、微電子、MEMS、3D 光刻、光學(xué)可變器件 (OVD)、衍射光學(xué)元件等領(lǐng)域的研發(fā)帶來了機(jī)會。

PICOMASTER 是適合您實驗室的工具：

P RECISION：即使對于精細(xì)劑量也能提供高精度激光功率控制，即使在具有挑戰(zhàn)性的樣品上也能自動對焦，并且具有對準(zhǔn)精度

解決方案：為特征和光柵提供的分辨率，特征周期低至 300 nm 以下

優(yōu)化：可以通過桌面或獨(dú)立系統(tǒng)選擇、適當(dāng)?shù)募す庠床ㄩL和寫入模式選擇來針對任何類型的應(yīng)用進(jìn)行優(yōu)化

輪廓分析：提供高達(dá) 4096 級的灰度功能，而不影響曝光速度，實現(xiàn)2.5D 抗蝕劑輪廓分析

易于使用：內(nèi)部設(shè)計的對齊工具和強(qiáng)大的用戶界面支持輕松的樣品處理，方便處理最常見的文件格式

降低維護(hù)成本：通過免維護(hù)運(yùn)動平臺和長壽命光學(xué)模塊（10,000 小時）實現(xiàn)平穩(wěn)、快速且經(jīng)濟(jì)高效的維護(hù)，該模塊易于更換，無需上門服務(wù)

特征

解決

< 300 納米

灰度級別

4096

激光源

405 / 37

根據(jù)您的需求優(yōu)化直接激光刻錄機(jī)

PICOMASTER 直接激光刻錄機(jī)在可配置的平臺上工作，該平臺可以根據(jù)您的應(yīng)用或特定實驗室條件進(jìn)行優(yōu)化，以滿足您的需求。PICOMASTER 可以是桌面或獨(dú)立系統(tǒng)，可以針對不同類型的抗蝕劑具有不同的激光波長，并且可以為各種應(yīng)用提供不同的光斑尺寸。如果需要，它可以與環(huán)境穩(wěn)定裝置結(jié)合使用。